Китайская компания PuLin Technology, более известная как Prinano, достигла значительного прогресса в области нанотехнологий, представив свой первый полностью разработанный наноимпринтный литограф — модель PL-SR. Эта новинка предназначена для реального производства микроэлектронных компонентов, что является важным шагом на пути к независимости Китая в области передовых микросхем. Впервые после японской компании Canon, которая поставила аналогичное оборудование, Prinano стала второй компанией, способной интегрировать наноимпринтную литографию в промышленные производственные линии. Это говорит о высоком уровне технологического развития и амбициях Китая в области микроэлектроники.
На фото видно, как устроено оборудование: машина Prinano использует инновационный подход к формированию сложных схем на пластинах с минимальными линиями шириной менее десяти нанометров. Для сравнения, японский Canon FPA-1200NZ2C способен наносить рисунки с минимальной шириной линии 14 нанометров, а системам на базе EUV-литографии уже удалось достигать диаметра менее 7 нм для самых современных процессоров. Однако, уникальность системы Prinano заключается в возможностях для производства чипов со схемами 5 нм и менее, что открывает новые перспективы для развития полупроводниковой отрасли в Китае.
Преимущество нанопечати состоит в отсутствии необходимости использования высокоэнергетического ультрафиолетового излучения экстремального ультрафиолетового (EUV) типа, что существенно снижает требования к оборудованию и его стоимости. Эта технология обеспечивает более низкое энергопотребление и уменьшение затрат на создание оборудования, что особенно важно для масштабных производственных линий и стран с ограниченными ресурсами. Однако, такой метод обладает своими техническими ограничениями: он заметно уступает по скорости традиционным оптическим подходам и менее подходит для производства сложных логических компонентов, таких как процессоры и графические чипы, требующие сложных многоэлементных шаблонов.
Masина Prinano работает по принципу притирки жесткой кварцевой формы с наноструктурированной поверхностью к тонкому слою резиста, нанесенному методом струйной печати. В этом случае, струйный модуль системы постоянно измеряет объем капель, гарантируя сохранение тонковолнового слоя менее десяти нанометров с точностью в менее двух нанометров. Такой режим обеспечивает высокую точность и повторяемость при формировании микросхем. Оборудование PL-SR способно обрабатывать 300-миллиметровые пластины, что соответствует стандартам современного производства полупроводниковых устройств, что делает его практически применимым для коммерческого производства.
В целом, внедрение Prinano в промышленный цикл — это важный шаг к расширению возможностей китайской микроэлектронной промышленности. Несмотря на то, что технология ещё не достигла уровня передовых европейских или американских решений, она уже демонстрирует потенциал для выпуска специализированных и массовых компонентов, таких как флэш-память, а также может стать основой для дальнейших инноваций в области наноимпринтных технологий. В перспективе, развитие этого направления может снизить зависимость Китая от импортного оборудования и укрепить его позиции на глобальном рынке полупроводников.
